中端國產(chǎn)光刻機的誕生標(biāo)志著中國在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要進展。光刻機是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，用于將芯片的電路圖案投射到硅片上。傳統(tǒng)上，全球主要的光刻機供應(yīng)商都集中在美國、歐洲和日本等發(fā)達國家，中國一直依賴進口光刻機來滿足國內(nèi)芯片制造需求。然而，隨著中國對半導(dǎo)體自給自足的追求和技術(shù)實力的提升，中國開始投入大量資源和努力來發(fā)展自己的光刻機制造能力。

中端國產(chǎn)光刻機誕生主要是上海微電子的90nm光刻機，90nm光刻機經(jīng)過兩次曝光,可以制成45nm的芯片,三次曝光后可以制成22nm的芯片。當(dāng)然，隨著曝光次數(shù)越多，良品率會越來越低，因此此光刻機主要集中在中端領(lǐng)域，此光刻機在2007年就研發(fā)出來了，但是到了2018年才實現(xiàn)量產(chǎn)，可見光刻機每一步都很艱難，截止至目前，我國量產(chǎn)的光刻機仍然停留在90nm。

很多人說要彎道超車，但是在光刻機這種技術(shù)非常復(fù)雜的設(shè)備上，我們也只能一步一步來，希望中國有朝一日也能量產(chǎn)出7nm的EUV光刻機。