光刻機是工業(yè)史上的明珠，需要全球產(chǎn)業(yè)鏈一起配合才能造出來，荷蘭的asml就是如此，因此建造高端的光刻機非常困難。我們都知道上海微電子能量產(chǎn)90nm的光刻機，而下一個階段就是28nm的光刻機，但是網(wǎng)上有不少傳聞?wù)f已經(jīng)出來了是真的嗎？接下來和宇凡微一起了解一下吧。

其實上海微電子一直在攻克28nm的光刻機，有消息聲稱目前還有一些關(guān)鍵零件沒有突破，可能還需要些時間，如果出來了，相信能讓我國芯片進一步國產(chǎn)化。

開發(fā)和推出一款新的光刻機需要經(jīng)過長期的研發(fā)、測試和驗證過程。在芯片制造領(lǐng)域，每個制程節(jié)點的光刻技術(shù)都需要不斷的創(chuàng)新和進步，以滿足不斷增長的市場需求和技術(shù)要求。如果真的造出來了，那么距離量產(chǎn)又是一段時間。

因此，經(jīng)過分析，目前雖然上海微電子沒有28nm的光刻機，但是相信再過幾年就會出現(xiàn)了，并且將量產(chǎn)提上日程，想知道最新消息也可以多關(guān)注其官網(wǎng)。